Method for producing semiconductor gas

WO2011102268 Art A1 25. August 2011

Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011102268
Aktenzeichen: EP11744555
Anmeldetag: 9. Februar 2011
Veröffentlichung: 25. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C07C17/361C07C19/08C07C51/58C07C53/48C09K13/08C11D7/30H01L21/3065C07B61/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Central Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Organische Chemie

Vertreten von

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