Electron beam irradiation device and electron beam irradiation method

WO2011102320 Art A1 25. August 2011

Anmelder: ULVAC, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011102320
Aktenzeichen: EP11744606
Anmeldetag: 14. Februar 2011
Veröffentlichung: 25. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G21K5/00B01J19/08C23C14/30G21K3/00G21K5/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

1.137 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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