Rohling aus Titan-Dotiertem, Hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der Euv-Lithographie und Verfahren für Seine Herstellung
WO2011104257
Art A1
1. September 2011
Anmelder: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011104257
- Aktenzeichen
- EP11707135
- Anmeldetag
- 23. Februar 2011
- Veröffentlichung
- 1. September 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C03B19/14C03C3/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Heraeus Quarzglas
Deutscher Hersteller von Quarzglas, das für optische Komponenten, Halbleiterfertigung, Beleuchtung und industrielle Anwendungen wie Lichtwellenleiter und Hochtemperaturprozesse eingesetzt wird.
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