Negative photosensitive resin composition, interlayer insulating film and method of formation of same

WO2011105443 Art A1 1. September 2011

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011105443
Aktenzeichen: EP11747403
Anmeldetag: 23. Februar 2011
Veröffentlichung: 1. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/033C08F2/50C08F32/04C08F277/00G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von