Use of ruthenium tetroxide as a precursor and reactant for thin film depositions

WO2011106072 Art A2 1. September 2011

Anmelder: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011106072
Aktenzeichen: EP10846804
Anmeldetag: 22. Dezember 2010
Veröffentlichung: 1. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/18C23C16/44H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Air Liquide

Französischer Konzern für Industriegase und medizinische Gase, gegründet 1902 auf Basis des Luftverflüssigungsverfahrens von Georges Claude. Beliefert Industrie, Gesundheitswesen und Elektronikfertigung mit Gasen und Anlagentechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von