Annealing device, annealing method, and thin-film substrate manufacturing system

WO2011108463 Art A1 9. September 2011

Anmelder: Tokyo Electron Limited, University of Yamanashi, Riken 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011108463
Aktenzeichen: EP11750573
Anmeldetag: 25. Februar 2011
Veröffentlichung: 9. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/268

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
University of Yamanashi
Riken
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 RIKEN

Japanische staatliche Forschungseinrichtung mit Sitz in Wako bei Tokio, aktiv in Physik, Chemie, Biologie und Ingenieurwissenschaften mit zahlreichen Forschungszentren.

940 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von