Reflection-type mask blank for euv lithography and method for producing the same

WO2011108470 Art A1 9. September 2011

Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011108470
Aktenzeichen: EP11750580
Anmeldetag: 25. Februar 2011
Veröffentlichung: 9. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Asahi Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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