Radiation-sensitive resin composition and resist pattern formation method

WO2011108665 Art A1 9. September 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011108665
Aktenzeichen: EP11750774
Anmeldetag: 3. März 2011
Veröffentlichung: 9. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/38G03F7/004G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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