Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method, and sulfonium compound

WO2011108667 Art A1 9. September 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011108667
Aktenzeichen: EP11750776
Anmeldetag: 3. März 2011
Veröffentlichung: 9. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C07C381/12G03F7/004G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von