Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film and pattern forming method using the same

WO2011108744 Art A1 9. September 2011

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011108744
Aktenzeichen: EP11750852
Anmeldetag: 1. März 2011
Veröffentlichung: 9. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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