Vapor deposition mask, vapor deposition apparatus and vapor deposition method

WO2011111134 Art A1 15. September 2011

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011111134
Aktenzeichen: EP10847367
Anmeldetag: 29. Oktober 2010
Veröffentlichung: 15. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/24C23C14/56H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

22.800 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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