Ion-beam generating apparatus, and substrate processing apparatus and method of manufacturing electronic device using same

WO2011111343 Art A1 15. September 2011

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011111343
Aktenzeichen: EP11753009
Anmeldetag: 3. März 2011
Veröffentlichung: 15. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/08G11B5/84H01J27/02H01L21/302

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

421 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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