Heating apparatus and annealing apparatus

WO2011111659 Art A1 15. September 2011

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011111659
Aktenzeichen: EP11753317
Anmeldetag: 7. März 2011
Veröffentlichung: 15. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/26C23C4/10C23C14/50C23C14/58C23C16/46H01L21/265H01L33/64

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von