Method for forming anodized layer, method for producing mold and method for producing antireflective film

WO2011111697 Art A1 15. September 2011

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011111697
Aktenzeichen: EP11753355
Anmeldetag: 8. März 2011
Veröffentlichung: 15. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C25D11/04B29C33/38B29C59/02C25D11/12G02B1/11

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

22.800 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von