Polymerizable monomer, polymer, resist material using same, and pattern formation method therefor

WO2011111807 Art A1 15. September 2011

Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011111807
Aktenzeichen: EP11753465
Anmeldetag: 11. März 2011
Veröffentlichung: 15. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/26C07C69/54G03F7/004G03F7/039G03F7/38G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Central Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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