Semiconductor device and fabrication method thereof

WO2011113268 Art A1 22. September 2011

Anmelder: Peking University 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011113268
Aktenzeichen: EP10847737
Anmeldetag: 25. September 2010
Veröffentlichung: 22. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8234H01L21/336H01L21/265H01L27/088H01L29/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Peking University
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Peking University

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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