Resist pattern formation device, resist pattern formation method, and wafer lens production method

WO2011114883 Art A1 22. September 2011

Anmelder: Konica Minolta Opto, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011114883
Aktenzeichen: EP11756072
Anmeldetag: 2. März 2011
Veröffentlichung: 22. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/30H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Konica Minolta Opto, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Konica Minolta

Japanisches Technologieunternehmen, das Bürodrucksysteme, Multifunktionsgeräte, optische Geräte sowie Mess- und Sensortechnik herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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