Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device

WO2011115041 Art A1 22. September 2011

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011115041
Aktenzeichen: EP11756226
Anmeldetag: 14. März 2011
Veröffentlichung: 22. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/82H01L21/3205H01L21/8242H01L23/52H01L25/065H01L25/07H01L25/18H01L27/108

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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