Methods for preparing thin fillms by atomic layer deposition using hydrazines

WO2011115878 Art A1 22. September 2011

Anmelder: Sigma-Aldrich Co. LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011115878
Aktenzeichen: EP11709849
Anmeldetag: 14. März 2011
Veröffentlichung: 22. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/18C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sigma-Aldrich Co. LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Sigma-Aldrich

Sigma-Aldrich ist ein US-amerikanischer Anbieter von Chemikalien und Life-Science-Produkten und gehört seit 2015 zum deutschen Merck-Konzern. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Pharma-/Biotechnologie und organische Chemie, ergänzt durch Messtechnik und Metallurgie. Die Anmeldungen von 2000 bis 2025 betreffen unter anderem Ramanspektroskopie zur Prozessüberwachung und die Herstellung von Lipid-Nanopartikeln.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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