Inspection device and inspection method

WO2011117943 Art A1 29. September 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011117943
Aktenzeichen: EP10848337
Anmeldetag: 1. Dezember 2010
Veröffentlichung: 29. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G01N27/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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