Substrate processing device, substrate processing method, program, and computer recording medium
WO2011118346
Art A1
29. September 2011
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011118346
- Aktenzeichen
- EP11759154
- Anmeldetag
- 2. März 2011
- Veröffentlichung
- 29. September 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02H01L21/027H01L21/677H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
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