Process for production of optical vanadium dioxide thin film

WO2011118700 Art A1 29. September 2011

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011118700
Aktenzeichen: EP11759505
Anmeldetag: 24. März 2011
Veröffentlichung: 29. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/14C03C17/34G01J1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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