Negative type resist composition, method for producing relief pattern using the resist composition, and electronic part using the resist composition

WO2011118726 Art A1 29. September 2011

Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011118726
Aktenzeichen: EP11759531
Anmeldetag: 24. März 2011
Veröffentlichung: 29. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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