Manufacturing method for polycrystalline silicon ingot, and polycrystalline silicon ingot

WO2011118773 Art A1 29. September 2011

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation, Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011118773
Aktenzeichen: EP11759577
Anmeldetag: 25. März 2011
Veröffentlichung: 29. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/02B22D27/04C30B29/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Mitsubishi Materials Corporation
Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von