Airflow Management For Low Particulate Count in A Process Tool

WO2011119729 Art A2 29. September 2011

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011119729
Aktenzeichen: EP11760144
Anmeldetag: 23. März 2011
Veröffentlichung: 29. September 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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