Substrate holding apparatus, substrate holding method, and inspecting apparatus and inspecting method using the substrate holding apparatus and the substrate holding method

WO2011121868 Art A1 6. Oktober 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011121868
Aktenzeichen: EP11762123
Anmeldetag: 14. Januar 2011
Veröffentlichung: 6. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/683G01B7/00G01B11/30G01N21/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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