Method for manufacturing substrate for photomask blank, method for manufacturing photomask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2011122608 Art A1 6. Oktober 2011

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011122608
Aktenzeichen: EP11762832
Anmeldetag: 29. März 2011
Veröffentlichung: 6. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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