Surface cleaning and selective deposition of metal-containing cap layers for semiconductor devices

WO2011123368 Art A1 6. Oktober 2011

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011123368
Aktenzeichen: EP11763278
Anmeldetag: 26. März 2011
Veröffentlichung: 6. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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