Fabricating voids using slurry protect coat before chemical-mechanical polishing

WO2011123442 Art A1 6. Oktober 2011

Anmelder: SanDisk 3D LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011123442
Aktenzeichen: EP11713147
Anmeldetag: 29. März 2011
Veröffentlichung: 6. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/822H01L27/06H01L27/10H01L21/3105H01L21/3205H01L21/768H01L21/321H01L21/02H01L23/544

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SanDisk 3D LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 SanDisk 3D

SanDisk 3D war eine auf dreidimensionale Speichertechnologien spezialisierte Tochtergesellschaft von SanDisk, heute Teil von Western Digital. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiterbauelemente sowie Akustik- und Datenspeichertechnik. Die Anmeldungen aus 2001 bis 2014 betreffen unter anderem vertikale Feldeffekttransistoren und 1T-1R-Speicherzellen.

308 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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