Cyclic metal amides and vapor deposition using them

WO2011123675 Art A1 6. Oktober 2011

Anmelder: President and Fellows of Harvard College 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011123675
Aktenzeichen: EP11716104
Anmeldetag: 31. März 2011
Veröffentlichung: 6. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C07C211/09C07F7/22C07F7/24C23C16/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: President and Fellows of Harvard College
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Harvard University

US-amerikanische Elite-Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts. Harvard betreibt Forschung und Patentierung in zahlreichen Feldern, insbesondere Biotechnologie, Medizin, Life Sciences und Materialwissenschaften.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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