Etching method and device

WO2011125514 Art A1 13. Oktober 2011

Anmelder: Sekisui Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011125514
Aktenzeichen
EP11765415
Anmeldetag
24. März 2011
Veröffentlichung
13. Oktober 2011
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/3065H01L21/306H01L21/336H01L29/786
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Sekisui Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sekisui Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.

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