Resist developer, method for forming a resist pattern and method for manufacturing a mold

WO2011125571 Art A1 13. Oktober 2011

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011125571
Aktenzeichen: EP11765471
Anmeldetag: 28. März 2011
Veröffentlichung: 13. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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