Curable composition for nanoimprint, semiconductor element, and nanoimprint method

WO2011125800 Art A1 13. Oktober 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011125800
Aktenzeichen: EP11765700
Anmeldetag: 30. März 2011
Veröffentlichung: 13. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B29C59/02C08F2/44C08F12/20C08L101/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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