Chemical-mechanical polishing pad conditioning system

WO2011126599 Art A1 13. Oktober 2011

Anmelder: Massachusetts Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011126599
Aktenzeichen: EP11705083
Anmeldetag: 3. Februar 2011
Veröffentlichung: 13. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Massachusetts Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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