Semiconductor structure for preventing leakage
WO2011127727
Art A1
20. Oktober 2011
Anmelder: Tsinghua University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011127727
- Aktenzeichen
- EP10849736
- Anmeldetag
- 8. November 2010
- Veröffentlichung
- 20. Oktober 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/778
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tsinghua University
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Tsinghua University
Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.
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