Surface treatment method and device for micro tas substrate, and mask for surface treatment of micro tas substrate

WO2011129165 Art A1 20. Oktober 2011

Anmelder: Ushio Denki Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011129165
Aktenzeichen: EP11768686
Anmeldetag: 9. März 2011
Veröffentlichung: 20. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G01N35/08B01J19/12B81C3/00G01N37/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Ushio Denki Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Ushio Inc.

Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.

559 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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