Imaging optics, and a projection exposure apparatus for microlithography having such an imaging optics

WO2011131289 Art A1 27. Oktober 2011

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011131289
Aktenzeichen: EP11712186
Anmeldetag: 2. April 2011
Veröffentlichung: 27. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G02B17/06G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von