Method of forming a photocatalytic film on a transparent electrode

WO2011132287 Art A1 27. Oktober 2011

Anmelder: Hitachi Zosen Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011132287
Aktenzeichen: EP10850228
Anmeldetag: 22. April 2010
Veröffentlichung: 27. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C26/00B01J35/02H01L31/04H01M14/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Zosen Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Zosen

Hitachi Zosen ist ein japanischer Schwermaschinenbaukonzern mit Wurzeln im Schiffbau, heute unter anderem in der Umwelt- und Energietechnik aktiv. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt um anorganische Chemie. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2024.

521 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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