Semiconductor device, semiconductor device manufacturing device, semiconductor device manufacturing method, and ic tag
WO2011132630
Art A1
27. Oktober 2011
Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011132630
- Aktenzeichen
- EP11771965
- Anmeldetag
- 18. April 2011
- Veröffentlichung
- 27. Oktober 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06K19/077G06K19/07H01L21/52H01L23/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Vertreten von
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