Composition for formation of lithographic resist underlayer film which contains resin containing polyimide structure

WO2011132641 Art A1 27. Oktober 2011

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011132641
Aktenzeichen: EP11771976
Anmeldetag: 18. April 2011
Veröffentlichung: 27. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G73/10H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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