N-type diffusion layer-forming composition, n-type diffusion layer production method and solar cell component production method

WO2011132779 Art A1 27. Oktober 2011

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011132779
Aktenzeichen: EP11772110
Anmeldetag: 22. April 2011
Veröffentlichung: 27. Oktober 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/225C03C8/18H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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