Epitaxial film formation method, vacuum treatment device, method for producing semiconductor light-emitting element, semiconductor light-emitting element, lighting device

WO2011136016 Art A1 3. November 2011

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011136016
Aktenzeichen: EP11774800
Anmeldetag: 12. April 2011
Veröffentlichung: 3. November 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/38C23C14/06C23C14/34H01L21/203H01L21/683H01L33/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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