Vacuum processing device, method for moving substrate and alignment mask, alignment method, and film forming method

WO2011136075 Art A1 3. November 2011

Anmelder: Ulvac, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011136075
Aktenzeichen: EP11774858
Anmeldetag: 19. April 2011
Veröffentlichung: 3. November 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/04H01L51/50H05B33/10C23C16/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Ulvac, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

1.137 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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