Substrates for mirrors for euv lithography and their production

WO2011138340 Art A2 10. November 2011

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011138340
Aktenzeichen: EP11718353
Anmeldetag: 3. Mai 2011
Veröffentlichung: 10. November 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C03C3/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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