Chemical supply system, substrate processing apparatus provided with same, and application/development system provided with the substrate processing apparatus

WO2011138881 Art A1 10. November 2011

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011138881
Aktenzeichen: EP11777400
Anmeldetag: 16. März 2011
Veröffentlichung: 10. November 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B01D35/26B05C11/08B05C11/10H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von