Contact hole, semiconductor device and manufacturing method thereof

WO2011140850 Art A1 17. November 2011

Anmelder: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011140850
Aktenzeichen: EP11780072
Anmeldetag: 24. Februar 2011
Veröffentlichung: 17. November 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/60H01L21/768H01L27/105

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences

Chinesisches Forschungsinstitut der Chinese Academy of Sciences mit Schwerpunkt auf Mikroelektronik und Halbleitertechnologie. Patente betreffen Chipdesign und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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