Photosensitive conductive film, method for forming conductive membrane, and method for forming conductive pattern

WO2011142360 Art A1 17. November 2011

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011142360
Aktenzeichen: EP11780617
Anmeldetag: 10. Mai 2011
Veröffentlichung: 17. November 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01B5/14G03F7/004G03F7/11H01B13/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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