Pattern dimension measurement method, pattern dimension measurement device, program for causing computer to execute pattern dimension measurement method, and recording medium having same recorded thereon
WO2011145338
Art A1
24. November 2011
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011145338
- Aktenzeichen
- EP11783275
- Anmeldetag
- 18. Mai 2011
- Veröffentlichung
- 24. November 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B15/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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