Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer and compound

WO2011145703 Art A1 24. November 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011145703
Aktenzeichen: EP11783637
Anmeldetag: 19. Mai 2011
Veröffentlichung: 24. November 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F20/30G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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