Through silicon via treatment device and method for treatment of tsvs in a chip manufacturing process

WO2011145930 Art A1 24. November 2011

Anmelder: Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011145930
Aktenzeichen: EP11721136
Anmeldetag: 16. Mai 2011
Veröffentlichung: 24. November 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/285H01L21/768C23C14/04C23C14/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 TNO (Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk onderzoek)

Niederländisches, unabhängiges Forschungsinstitut für angewandte Naturwissenschaften mit Sitz in Den Haag. TNO betreibt anwendungsorientierte Forschung und Entwicklung in Bereichen wie Energie, Mobilität, Gesundheit, Verteidigung und Informationstechnologie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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